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전자회로

CMOS 공정 호환, 초저전력 스위칭 소자 개발

기술분야

반도체 스위칭 소자

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AI 요약

초소형화, 고집적화된 전자회로에서 저전력/저전압 구동은 핵심 과제이나, 기존 기술은 복잡한 공정과 누설 전류 증가 문제가 있었습니다. 본 발명은 음의 축전 용량(NC)을 갖는 유전체를 비아 구조체에 적용하여 스위칭 소자의 문턱 전압을 획기적으로 낮추는 저전압 구동 스위칭소자 및 제조 방법을 제공합니다. 이 기술은 추가 면적 소모 없이 기존 CMOS 공정으로 제조 가능하여 칩의 고집적화와 전력 효율 극대화를 동시에 달성합니다. 차세대 저전력 반도체 시장을 선도할 본 기술을 확인하십시오.

기본 정보

기술명
저전압 구동 스위칭소자 및 이의 제조 방법
기관명
서강대학교산학협력단
대표 연구자공동연구자
최우영-
출원번호등록번호
10201800827401021319000000
권리구분출원일
특허2018.07.17
중요 키워드
반도체 소자 개발CMOS 공정 기술초저전력 반도체문턱 전압 최적화저전압 스위치 구현에너지 효율 향상비아 구조체 활용네거티브 캐패시터MOSFET 소자음의 축전용량저전압 구동 스위칭소자MEMS 스위치고집적 반도체전계효과 트랜지스터차세대 전력반도체전자회로반도체소자

기술완성도 (TRL)

기본원리 파악
기본개념 정립
기능 및 개념 검증
연구실 환경 테스트
유사환경 테스트
파일럿 현장 테스트
상용모델 개발
실제 환경 테스트
사업화 상용운영

기술 소개

매도/매수 절차

기술이전 상담신청

연구자 미팅

기술이전 유형결정

계약서 작성 및 검토

계약 및 기술료 입금

서강대학교
문의처

서강대학교

담당자서강대학교산학협력단
이메일tlo@sogang.ac.kr
연락처02-3274-4863

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