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기존 딥 코팅 방식은 균일한 코팅막 형성을 위해 고속회전이 필요하며, 고르지 않은 표면에는 적용이 어렵다는 한계가 있었습니다. 본 기술은 이러한 문제점을 해결하고자 멤브레인을 활용한 딥 코팅 장치 및 시스템을 제안합니다. 관통홀에 형성되는 멤브레인을 통해 고속회전 없이도 코팅 대상체 표면에 균일한 코팅막을 형성할 수 있습니다. 또한, 코팅 대상체 표면이 고르지 않더라도 균일한 코팅이 가능하며, 관통홀의 면적 조절을 통해 코팅막의 두께를 정밀하게 제어할 수 있습니다. 이는 다양한 산업 분야에서 고품질 코팅 공정의 효율성을 높이는 데 기여할 것으로 기대됩니다.
기술명 | |
딥 코팅 장치 및 딥 코팅 시스템 | |
기관명 | |
서강대학교산학협력단 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
윤광석 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020200168003 | 1023844760000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2020.12.04 |
중요 키워드 | |
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